




如何控制和提高led全彩显示屏品质
全彩led显示屏的显示效果直接关联着用户、受众,要想获得的使用体验,需要控制和提高led显示屏的品质。那么,如何控制和提高led全彩显示屏品质?反映全彩led显示屏led品质的重要指标是什么?
led器件作为全彩led显示屏的关键部件,原因有三:
首先,led是全彩屏整机中使用数量的关键器件,led模组批发,每平方米会使用几千至几万只led;
其次,led是决定整屏光学显示性能的主体,直接影响观众对显示屏的评价;
再次,uv led模组,led在显示屏整体成本中所占比例大,从30%~70%不等。led的选择决定整个显示屏50%以上的品质。如果未能选择好led,显示屏的其他部件再好也无法弥补显示屏品质的缺陷。
外延片的生长工艺有很多流程,需要很多高菁尖设备,uv led模组报价,生长出来的外延片直接决定了 led 的波长、亮度、正向电压等主要的光电参数。外延片的生长基本原理是在一块加热至适当温度的衬底基片(主要有蓝宝石、sic 碳化硅、si 硅)上,气态物质 in ga al p(铟 家 铝 磷) 有控制的输送到衬底表面,生长出特定单晶薄膜。
目前主要的外延片衬底材料有蓝宝石、碳化硅和硅。不同的衬底材料有不同的光电特性,价格差别也很大。外延片制造过程如下:
先把晶棒切片,切片需要注意晶面的结晶方向、晶片的厚度、晶面的斜度和曲度;切片后为了防止晶片边缘碎裂、防止热应力集中以及增加外延层的平坦度 需要把晶边磨圆,然后还需要蚀刻(shí kè),蚀刻的目的在于把前面机械加工所造成的损伤给去掉,蚀刻需要用到晶片研磨机;下一步需要将晶片置于炉管中施以惰性气体加热30分钟至一小时,再在空气中快速冷却,可以将所有氧杂质去除,这样晶片的电性(阻值)仅由载流子杂质来控制,从而稳定电阻,这一步需要使用到高温快速热处理设备;然后使用抛光机再给晶片抛光;再然后就是使用晶片清洗机来清洗晶片,用rca溶液(双i氧水+---或又氧水+---),将前面工序所形成的污染清除,蕞后在无尘环境中严格检查晶片表面的洁净度、平坦度---符合规格要求,蕞后包装到特殊的容器中保存。
电子芯片和led芯片有什么主要区别?
1,led模组,芯片的裸die尺寸相差不是太大,如cm/mm/0.1mm这个量级,但同样大小的集成电路里面有非常复杂的电路(常说的7nm/10nm工艺),ic设计和制造一样为非常复杂高难度的工程,由此衍生既像intel、三星这样设计制造一体的公司,也有高通、苹果这样的fabless公司及台积电这样的代工厂;而分立器件一颗die就是独立的一个发光源再加上正负电极,里面的制程可能100um/10um级就够了,制造工艺流程也简单很多,从头到尾一百次左右工序就差不多了。更谈不上独立的led ic设计公司。
2,芯片制造厂对清洁和低缺陷率要求---,前者可能影响性能,缺陷多了,载流子移动速度上不来,如同一批货,有的能跑2.8ghz频率,有的只能跑2g以下;led芯片对发光层缺陷率的要求比硅器件还要高几个数量级(印象中数据),否则---影响发光效率,也就是很大部分能量以热能形式损失掉了。led技术和产品已有几十年历史,但---使用(如液晶屏幕背光)是这二十年来的事情,材料不行导致发光效率低是首要原因。
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